Four de frittage réactif sous vide PJ-RSJ SiC

Four sous vide de frittage réactif SiC PJ-RSJ - Image mise en avant

Présentation du modèle

PJ-RLe four sous vide SJ est conçu pour le frittage de produits en SiC. Il convient au frittage réactif de ces produits. Doté d'un moufle en graphite, il évite la pollution par les évaporites de silice.

Le frittage par réaction du SiC est un procédé de densification dans lequel du silicium liquide réactif ou un alliage de silicium est infiltré dans un corps céramique poreux contenant du carbone pour réagir et former du carbure de silicium, puis combiné avec les particules de carbure de silicium d'origine pour remplir les pores restants dans le corps.

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Détails du produit

Étiquettes de produit

Spécifications principales

Code modèle		Dimension de la zone de travail (mm)			Capacité de charge kg
Code modèle		longueur	largeur	hauteur	Capacité de charge kg
PJ-RSJ	322	300	200	200	100
PJ-RSJ	633	600	300	300	200
PJ-RSJ	933	900	300	300	400
PJ-RSJ	1244	1200	400	400	600
PJ-RSJ	1855	1800	500	500	1000
PJ-RSJ	322	300	200	200	100
Température de fonctionnement maximale :1800℃ Uniformité de la température :≤±5℃ à 1300℃ ; ≤±10℃ à 1600℃ ; ≤±20℃ au-dessus de 1600℃ Aspirateur ultime :4,010^-1Pa ; Taux d'augmentation de la pression :≤0,67 Pa/h ; Pression de refroidissement du gaz :*<2 Bar.