Four sous vide de frittage réactif SiC PJ-RSJ

Four de frittage réactif sous vide PJ-RSJ SiC (Image en vedette)

Présentation du modèle

PJ-RLe four sous vide SJ est conçu pour le frittage de produits en SiC. Il est adapté au frittage réactif. Il est équipé d'un moufle en graphite pour éviter la pollution par l'évaporation de la silice.

Le frittage par réaction SiC est un processus de densification dans lequel du silicium liquide réactif ou un alliage de silicium est infiltré dans un corps céramique poreux contenant du carbone pour réagir pour former du carbure de silicium, puis combiné avec les particules de carbure de silicium d'origine pour remplir les pores restants du corps.

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Détails du produit

Étiquettes de produit

Spécifications principales

Code du modèle		Dimension de la zone de travail mm			Capacité de charge kg
Code du modèle		longueur	largeur	hauteur	Capacité de charge kg
PJ-RSJ	322	300	200	200	100
PJ-RSJ	633	600	300	300	200
PJ-RSJ	933	900	300	300	400
PJ-RSJ	1244	1200	400	400	600
PJ-RSJ	1855	1800	500	500	1000
PJ-RSJ	322	300	200	200	100
Température maximale de fonctionnement :1800℃ Uniformité de la température :≤±5℃ à 1300℃; ≤±10℃ à 1600℃; ≤±20℃ au-dessus de 1600℃ Vide ultime :4.010^-1Pa ; Taux de montée en pression :≤0,67 Pa/h ; Pression de refroidissement du gaz :*<2 Bar.